Vysoce čistý plyn z nerezové oceli pneumatický membránový ventil 1/4 palce vysoký tlak
Popis výrobku
Specifikace pneumatického membránového ventilu
| Technická data | ||
| Velikost portu | 1/4″ | |
| vybíjecí koeficient (Cv) | 0,2 | |
| Maximální pracovní tlak | Manuál | 310 barů (4500 psig) |
| Pneumatický | 206 barů (3000 psig) | |
| Pracovní tlak pneumatického pohonu | 4,2~6,2 bar (60~90 psig) | |
| pracovní teplota | PCTFE: -23~65℃ (-10~150℉) | |
| Rychlost úniku (helium) | uvnitř | ≤1×10-9 mbar l/s |
| externí | ≤1×10-9 mbar l/s | |
| Data toku | ||
| vzduch @ 21℃（70℉） voda @ 16℃（60℉） | ||
| Pokles tlaku maximálního tlaku vzduchu bar (psig) | vzduch (lmin) | voda (l/min) |
| 0,68 (10) | 64 | 2.4 |
| 3,4 (50) | 170 | 5.4 |
| 6,8 (100) | 300 | 7.6 |
Proces čištění
▶standardní (WK-BA)
Všechny svarové spoje musí být vyčištěny podle standardních specifikací pro čištění a balení společnosti.
Při objednávce není třeba přidávat dovětek
▶Čištění kyslíkem (WK-O2)
Mohou být poskytnuty specifikace čištění a balení produktu pro kyslíkové prostředí.Tento produkt splňuje
požadavky na čistotu astmg93c.Při objednávce uveďte za číslo objednávky – O2
▶Ultra vysoká čistota (WK-EP)
Může zajistit řízenou povrchovou úpravu, elektrolytické leštění Ra0 třináct μm.Deionizováno
čištění vodou ultrazvukem.Pro objednání přidejte za číslo objednávky – EP
Všechny svarové spoje musí být vyčištěny podle standardních specifikací pro čištění a balení společnosti.
Při objednávce není třeba přidávat dovětek
▶Čištění kyslíkem (WK-O2)
Mohou být poskytnuty specifikace čištění a balení produktu pro kyslíkové prostředí.Tento produkt splňuje
požadavky na čistotu astmg93c.Při objednávce uveďte za číslo objednávky – O2
▶Ultra vysoká čistota (WK-EP)
Může zajistit řízenou povrchovou úpravu, elektrolytické leštění Ra0 třináct μm.Deionizováno
čištění vodou ultrazvukem.Pro objednání přidejte za číslo objednávky – EP
 | Hlavní konstrukční materiály | ||
| Sériové číslo | živel | textura materiálu | |
| 1 | Rukojeť | hliník | |
| 2 | Pohon | hliník | |
| 3 | Dřík ventilu | 304 SS | |
| 4 | Kapota | S17400 | |
| 5 | Matice kapoty | 316 SS | |
| 6 | Knoflík | mosaz | |
| 7 | membrána (5) | Slitina niklu a kobaltu | |
| 8 | točící židle | PCTFE | |
| 9 | těleso ventilu | 316L SS | |
Rozměry a informace o objednání
Přímý typ
velikost
Rozměry jsou v palcích (mm) jsou pouze orientační
velikost
Rozměry jsou v palcích (mm) jsou pouze orientační
| Základní číslo objednávky | Typ a velikost portu | velikost v. (mm) | |||
| A | B | C | L | ||
| WV4H-6L-TW4- | Trubka 1/4″ -W | 0,44 (11,2) | 0,30 (7,6) | 1,12 (28,6) | 1,81 (45,9) |
| WV4H-6L-FR4- | 1/4″ FA-MCR | 0,44 (11,2) | 0,86 (21,8) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-MR4- | 1/4″ MA-MCR1/4 | 0,44 (11,2) | 0,58 (14,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
| WV4H-6L-TF4- | OD | 0,44 (11,2) | 0,70 (17,9) | 1,12 (28,6) | 2,85 (72,3) |
Zapojená odvětví
TFT-LCD
Procesní speciální plyny používané v procesu CVD depozice ve výrobním procesu TFT-LCD jsou silan (S1H4), amoniak (NH3), fosfin (PH3), oxid dusný (N2O), NF3 atd. Kromě toho vysoce čistý vodík a vysoká do procesu se také zapojuje čistý dusík a další plyny.Argon se používá v procesu naprašování a naprašovaný film tvořící plyn je hlavním materiálem pro naprašování.Za prvé je požadováno, aby filmotvorný plyn nemohl reagovat s cílem a nejvhodnějším plynem je inertní plyn.V procesu leptání bude také použito velké množství speciálního plynu, přičemž elektronický speciální plyn je většinou hořlavý, výbušný a vysoce toxický, takže požadavky na plynový okruh a technologii jsou velmi vysoké.Wofei Technology se specializuje na návrh a instalaci speciálního systému pro přenos plynu s ultra vysokou čistotou.
Speciální plyny se používají hlavně v procesech tvorby filmu a suchého leptání v LCD průmyslu.Existuje mnoho druhů LCD, mezi nimiž je TFT-LCD nejrozšířenější LCD technologií díky své rychlé době odezvy, vysoké kvalitě obrazu a postupně nižší ceně.Výrobní proces TFT-LCD panelu lze rozdělit do tří fází: přední pole, střední buňka a sestava zadního modulu.Elektronický speciální plyn se používá hlavně ve fázích tvorby filmu a suchého leptání procesu front array.Po několika procesech tvorby filmu jsou na substrát naneseny nekovové filmy SiNx a kovové filmy, jako je mřížka, zdroj, odtok a ITO.
Q1.A co dodací lhůta?
Odpověď: Vzorek potřebuje 3-5 dní, čas hromadné výroby potřebuje 1-2 týdny pro množství objednávky větší než
Q2.Máte nějaký limit MOQ?
A: Nízká MOQ 1 obr.
Q3.Jak zasíláte zboží a jak dlouho trvá doručení?
Odpověď: Obvykle odesíláme prostřednictvím DHL, UPS, FedEx nebo TNT.Obvykle to trvá 5-7 dní.Letecká a námořní doprava je také volitelná.
Q4.Jak postupovat v objednávce?
Odpověď: Nejprve nám dejte vědět své požadavky nebo aplikaci.
Za druhé, citujeme podle vašich požadavků nebo našich návrhů.
Za třetí zákazník potvrdí vzorky a uloží zálohu na formální objednávku.
Za čtvrté zajišťujeme výrobu.
Zde napište svou zprávu a pošlete nám ji
