Ultra vysoké čistoty plyny jsou nezbytné v polovodičovém dodavatelském řetězci. Ve skutečnosti jsou pro typické FAB, vysoce čisté plyny jsou největšími materiálovými náklady po samotném křemíku. V důsledku globálního nedostatku čipů se průmysl rozšiřuje rychleji než kdy předtím - a poptávka po plynných plynech s vysokou čistotou roste.
Nejčastěji používanými hromadnými plyny při výrobě polovodičů jsou dusík, helium, vodík a argon.
Nitrogen
Dusík tvoří 78% naší atmosféry a je extrémně hojný. Stává se také chemicky inertní a nevodivá. V důsledku toho se dusík ocitl v řadě průmyslových odvětví jako nákladově efektivní inertní plyn.
Polovodičový průmysl je hlavním spotřebitelem dusíku. Očekává se, že moderní výrobní závod na polovodiči použije až 50 000 metrů krychlových dusíku za hodinu. Při výrobě polovodičů působí dusík jako obecný účel, který inerkuje a čistící plyn, a chrání citlivé křemíkové oplatky před reaktivním kyslíkem a vlhkostí ve vzduchu.
Hélium
Helium je inertní plyn. To znamená, že stejně jako dusík je helium chemicky inertní - ale má také další výhodu vysoké tepelné vodivosti. To je zvláště užitečné při výrobě polovodičů, což mu umožňuje účinně provádět teplo od vysokoenergetických procesů a pomáhat jim chránit před tepelným poškozením a nežádoucími chemickými reakcemi.
Vodík
Vodík se rozsáhle používá během výrobního procesu elektroniky a výroba polovodičů není výjimkou. Zejména se vodík používá pro:
Žíhání: křemíkové destičky jsou obvykle zahřívány na vysoké teploty a pomalu se ochladí na opravu (žíhání) krystalové struktury. Vodík se používá k rovnoměrnému přenosu tepla do oplatky a pro pomoc při přestavbě krystalové struktury.
Epitaxy: Vodík s ultra vysokou čistotou se používá jako redukční činidlo při epitaxiální depozici polovodičových materiálů, jako je křemík a germanium.
Depozice: Vodík může být dopován do křemíkových filmů, aby byla jejich atomová struktura narušena, což pomáhá zvýšit odpor.
Čištění plazmy: Plazma vodíku je zvláště účinná při odstraňování kontaminace cínu ze zdrojů světla používaných v UV litografii.
Argon
Argon je další ušlechtilý plyn, takže vykazuje stejnou nízkou reaktivitu jako dusík a helium. Argonova nízká ionizační energie však je užitečná v polovodičových aplikacích. Vzhledem k relativní snadné ionizaci se argon běžně používá jako primární plazmatický plyn pro reakce na leptání a depozice při výrobě polovodičů. Kromě toho se argon používá také v excimerových laserech pro UV litografii.
Proč na čistotě záleží
Obvykle bylo dosaženo pokroků v polovodičové technologii prostřednictvím škálování velikosti a nová generace polovodičové technologie se vyznačuje menšími velikostmi prvků. To přináší více výhod: více tranzistorů v daném objemu, zlepšené proudy, nižší spotřebu energie a rychlejší přepínání.
Jak se však kritická velikost zmenšuje, polovodičová zařízení jsou stále sofistikovanější. Ve světě, kde je záleží na poloze jednotlivých atomů, jsou prahy tolerance poruch velmi těsné. Výsledkem je, že moderní polovodičové procesy vyžadují procesní plyny s nejvyšší možnou čistotou.
Wofly je high-tech podnik specializující se na inženýrství aplikačního systému plynu: elektronický speciální plynový systém, systém laboratorního plynového obvodu, průmyslový centralizovaný systém nabídky plynu, systém hromadného plynu (kapalina), vysoce čistový plyn a speciální proces sekundárního potrubí, vybírající systém, vybírání, vybíráním, vybíráním, vybírání, vybíráním, prefatovací systém, výstavbu, prefabální konstrukce, prefabální systém, prefabální konstrukce, prefabrikační systém a prefabrikační systém, prefabóz, a vybírají, vybírají, a vybírají, vybírají, vybírají systémy, vybíráme, vybírají chemické dodávky, výstavbu, vybírá, vybírá, chemické dodávky, vybírá, vybírá, chemické dodávky, výstavba. Na místě projektu je celkové testování systému, údržba a další podpůrné produkty integrovaným způsobem.
Čas příspěvku: Jul-11-2023